计算光刻OPC原理图

　　新华网武汉11月27日电（连迅、高翔）华中科技大学（华中大）日前披露，华中大刘世元教授团队已成功研发出完全自主可控的计算光刻EDA软件OPC，未来将助力我国芯片制造业发展。

　　“没有OPC，即使用了光刻机，也造不出芯片。”刘世元说，OPC软件即“光学邻近校正软件”，是芯片设计工具EDA的一种。光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺，通过光刻成像系统，可以将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变。在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必须采用一类名为OPC的算法软件进行优化。“没有OPC，所有芯片制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力。”

　　刘世元是华中大机械科学与工程学院、光学与电子信息学院双聘教授，担任华中大集成电路测量装备研究中心主任，也是光谷实验室集成电路测量检测技术创新中心主任。2002年，他开始专注于集成电路计算光刻的基础研究。20年来，刘世元和团队坚持最底层的代码一行行敲、最基础的公式一个个算，终于打造出自主可控的OPC软件算法。目前，研究成果已在宇微光学软件有限公司实现成果转化，软件正在做集成、测试、与厂商验证。

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【责任编辑:赵梦琪 】